PECVD 연구실
PECVD 공정 연구실
Dual Frequency PECVD System
· 디스플레이 적용을 위한 배리어 및 anti scratch 박막합성
· Source size: φ 8 inch
· Film materials: SiOx, SiON
VHF(UHF) assisted RF-PECVD System
· 태양전지 및 TFT 소자를 위한 실리콘 및 실리콘 화합물 박막 합성
· Source size: φ 8 inch
· Film materials: a-/µc-Si (doped/undoped), SiNx
RF-PECVD System
· 플라즈마 진단을 위한 PECVD 장비
· Source size: φ 2 inch
· Film materials: SiOx, SiON
Microwave / RF PECVD System
· Carbon 기반의 다양한 박막 합성
· Source size: φ 4 inch
· Film materials: porous carbon, CNT, DLC


Dual Frequency PECVD System
· 디스플레이 적용을 위한 배리어 및 anti scratch 박막합성
· Source size: φ 8 inch
· Film materials: SiOx, SiON


VHF(UHF) assisted RF-PECVD System
· 태양전지 및 TFT 소자를 위한 실리콘 및 실리콘 화합물 박막 합성
· Source size: φ 8 inch
· Film materials: a-/µc-Si (doped/undoped), SiNx


RF-PECVD System
- 플라즈마 진단을 위한 PECVD 장비
- Source size: φ 2 inch
- Film materials: SiOx, SiON


Microwave / RF PECVD System
- Carbon 기반의 다양한 박막 합성
- Source size: φ 4 inch
- Film materials: porous carbon, CNT, DLC