디지털 전자 박막
박막 조직 및 구조의 이론적 설계
- 박막형성 에너지 이론에 근거하여 요구되는 박막의 특성을 구현하기 위한 박막의 조직 및 박막 시스템의 이론적인 설계
- 박막의 종류 : 금속, 산화물, 질화물 및 복합 화합물
- 박막의 조직 및 구조 : 나노결정, 고밀도 및 porous 박막, 무응력, 표면조도제어, 적층박막 구조 등

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디지털전자용 박막 신소재
1) 투명전도성 박막
- 박막소재 : ITO(InSnO2), IZO(InZnO2), AZO(AlZnO), GZO(GaZO) 등
- 박막특성 : 30 – 100 ohm /  (두께 : 100 ~ 500 nm)
- 기판소재/크기 : Glass, 폴리머(PET, PC,PI 등) / 200mmx200mm 이하
- 코팅공정 : 마그네트론 스퍼터링( DC, Pulsed DC, RF, dual sputtering )
- 코팅온도 : < 100 ℃
- 핵심기술 : 저온 고밀도 플라즈마 스퍼터링 공정설계에 의한 박막특성 제어

2) 기능성 화합물 및 금속 박막
- 화합물박막: ZnO, TiOx, TiN, SiNx, AlOx, SiOx 등
- 금속박막 : Al, Cu, Mo, W, Cr, Ni, C 등 각종 금속박막
- 박막특성 : 광학, 전도성, 광촉매, 전극,
- 기판소재 : Glass, 폴리머, 금속 및 세라믹
- 코팅공정 : 마그네트론 스퍼터링, 고밀도 플라즈마 PECVD
- 코팅온도 : 50 ~ 200 ℃
- 핵심기술 : 저온 고기능 박막합성, 플라즈마 소스 설계 및 진단제어, 공정설계에 의한 미세조직, 전도도, 응력 등 박막의 물리적, 전기적 특성 제어

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